株式会社オプセル

ご注文・お問い合わせ
リンク
English
HOME
www.opcell.co.jp

会社案内
ニュースリリース
技術紹介
製品案内
サービス案内
カタログダウンロード
製品案内
bt_line.gif
会社案内
bt_line.gif
Product_info
bt_line.gif
ニュースリリース
bt_line.gif
技術紹介
bt_line.gif
技術リポート
bt_line.gif
製品案内
bt_stripe.gif

bt_stripe.gif
超広視野共焦点レーザ走査イメージャ
マルチポリゴンレーザー走査装置
テレセンfθレンズレーザー直描装置
テレセンfθレーザ円筒直描装置
テレセントリック精密走査ユニット
レーザオートコリメータ
レーザ偏芯測定機
両側テレセントリック撮像レンズ
space.gif
bt_line.gif
サービス案内
bt_line.gif
カタログダウンロード


ご注文・お問い合わせ


PDFファイルの閲覧にはAcrobatReaderが必要です

プリント基板用レーザー直接描画装置


(特徴)
●レーザによるラスター走査方式
●レーザ波長は355、405、488、532、650o
●レーザ走査幅:10、60、80oが可能
●レーザスポット径:3、8、15μmなど可能
●1μmスポットのベクター走査機も供給可能
(主な用途)
●プリント基板直接描画装置として
●実験用の光学素子の直接描画装置として
●バイオ微小流路の直接描画装置として
密着露光方式の技術的限界を超えるシステムへ
プリント基板やPDP/液晶パネルのパターンはますます微細化の方向に進んでいますが、現在行われている方式の多くはマスクフィルムを必要とする密着露光方式であり、精密パターン形成の技術的限界があるだけでなく、多くの人手と処理工程が必要とされています。

このため、マスクレスで高精細、高速性、多品種対応などで優れているレーザー直接描画装置システムの開発が待たれています。

当社では、マルチポリゴンの走査方式の光走査ユニットを用いて、プリント基板用のレーザー直接描画システムを製品化・販売しております。このマスクレスレーザー露光装置 はメムス(MEMS)用レーザー露光装置としても使用が可能です。

マルチポリゴンレーザ走査装置
テレセンfθレーザ円筒直描装置
装置の主な特徴
1:微小な細線を高速で描画可能

最小10μmの細線をパソコン制御により高速で描画することが可能です。

2:シュリンクフィッタ
方式による高精度fθレンズ締結技術

各レンズの光軸が一致し、広い走査幅にわたってビームを微細に絞り込むことを可能にする「シュリンクフィッタ」を用いたレンズ締結技術を採用。環境温度変化に対して性能の安定性に優れ、振動や衝撃にも強いといった利点があります。

3:マルチポリゴン方式による走査幅のフレキシブル化

複数個のユニットを連結することで広幅のレーザー走査を可能とする「マルチポリゴン」方式を採用。当社独自の制御技術により、あたかも1台のレーザー走査装置で走査したかのような状態となります。また、コスト的にも優れており、大サイズのレーザー走査装置を低コストで作製することが可能です。

解像度 2,540dpi
プロセススピード 26.27mm/sec
レーザー光源 半導体レーザー波長650,830,780,405nm
結像面スポットサイズ φ12±6μm(650nm使用時)
1ユニット走査幅 80mm(2,540dpi時)
主走査方向位置制御 専用電子制御回路
副走査方向位置制御 リニアモーターステージ(p=0.1μm)またはボールステージネジ(p=1μm)

※製品に関するご注文、お見積もり、お問い合わせは下記のページをご利用下さい。
[ご注文・お問い合わせ]

pdf カタログダウンロード「プリント基板用レーザー直接描画装置」
ファイルサイズ:525KB 更新日:2002年11月14日
TOP
copyright.gifサイトマップご利用について