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新規性・独自性
マルチポリゴンレーザー走査装置・規格化した小型の光走査ユニットを複数結合させ広幅のレーザー走査を可能にするための技術を開発しました。この光走査装置は独自技術であり、光走査装置開発で培った、光学技術+レーザ走査技術を応用した新しい光学機器の開発、製造、販売を行います。
[技術紹介]マルチポリゴンレーザー走査装置

・新田式シュリンクフィッタを用いたレンズ締結方法(NSF方式)を応用した特徴のある工業用高精度レンズを開発製造販売します(特許出願中)。
[技術紹介]シュリンクフィッタを用いたレンズ締付方法

市場性・成長性
プリント基板直描レーザー装置 ・レーザ直接描画装置は、1つのものを大量に生産することよりも、多品種少量、特殊なパターンの生産に向いています。
特にマスクを大量に消費する多層基板などには適応性が高く、また、微細なパターンを描画する装置が求められ、成長性が高いものです。
・弊社では、コストパフォーマンスの高いラスター方式のレーザ描画装置を市場に提供していきます。
価格が安く実験研究に向いている405nmの波長を持つ半導体レーザを用いたものと、高速処理が可能な355nmの波長を持つYAGレーザを搭載した機種を提供して行きます。
一方、検査、評価用の装置は、広範囲な領域を、高解像度で評価できるものが求められておりますが、これに対応した装置として、405nmの半導体レーザを搭載したレーザ走査イメージャを提供いたします。レーザ走査ユニットは弊社の開発製品で、テレセントリック方式を基本としたfθレンズを用いています。最大画素数は3億2000万画素を有していで、広い範囲を高解像度でスキャンして評価することが出来ます。レーザ走査方式が、今後の検査装置の光学ヘッドの主流となると思われます。
[製品案内]超広視野の共焦点レーザ走査イメージャ
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